电子行业:从asml18q4季报看半导体行业景气度变化

事件:2019年1月23日,海外光刻机厂商ASML 发布2018年四季度季报,2018年四季度实现收入31.43亿欧元,同比增长22.7%,实现净利润7.88亿欧元,同比增长22.3%。

    点评:

    1) 存储芯片厂商在18Q4缩减资本开支应对价格下跌。主流存储器芯片Nand Flash 及DRAM 芯片进入降价周期,存储厂商在2018四季度明显放缓了资本开支力度。据ASML 的18Q4季报数据,来自存储芯片的光刻机销售额大幅下降,环比去年三季度下降了20%。

    2)中国晶圆厂建设热潮不改,2018光刻机采购额实现120%以上增长。在2018年四季度,来自大陆设备采购贡献已经占到了ASML的19%,中国大陆成为全球第二大光刻设备市场。中国大陆地区IC 设备市场保持高景气度,是全球半导体设备销售额增长最快的区域。在2018年四季度,ASML 在中国大陆地区的光刻机销售额达到15.7亿欧元,同比增长122%。展望2019年,中国大陆地区对IC 设备的需求依然非常旺盛。

    3)展望2019年,全球半导体景气度前低后高。2018年四季度以来,全球半导体产业景气度略有下滑,预计在2019年下半年开始全球半导体景气度会有所回升。晶圆制造厂在2019年的设备采购节奏验证了全球半导体2019年前低后高的景气度趋势。ASML 对主要晶圆制造厂客户的光刻机交付时间有所调整,将部分2019上半年交付的产品延后到下半年交付。展望2019年全年来看,台积电等晶圆代工厂延续了对下一代制程的高强度投资,是全球EUV 设备及ArF 浸没式光刻设备最重要的增长点。

    4)EUV 大势所趋,在2019继续放量增长。2018年EUV 光刻机出货量为18台,预计到2019年,EUV 光刻机出货量将达到30台,增长率超过66%。EUV 使用波长为13.5纳米的光作为光源,上一代产品Arf 浸没式光刻机使用193纳米光作为光源,EUV 的光源波长大幅缩短,光刻分辨率大幅提升。另一方面,EUV 光刻机的售价极为昂贵,单台EUV 光刻机售价约1.2亿美金,相比ArF 光刻机增长一倍。目前ASML 是全球唯一一家EUV 光刻机供应商,凭借EUV 技术,在7纳米以下光刻机市场将占据绝对的垄断地位。随着制程向5纳米、3纳米、2纳米演进,ASML 在光刻机领域的垄断地位及溢价权将不断强化。

    投资建议:中美贸易战背景下,国内晶圆厂建设节奏整体来看并未放缓。光刻机等关键设备的高成长来看,去年四季度反而是IC 设备采购的一个高峰期。我们认为市场对半导体市场的预期过于悲观,个别晶圆厂建设项目的波折对国内IC 设备市场的整体影响有限,短期的冲击不影响IC 设备国产化的大趋势。

    风险提示:

    半导体景气度持续低于预期的风险;

    中美贸易战对全球半导体产业需求的冲击风险;

    海外厂商对国内企业技术封锁加剧的风险。